[A-04] OS18 マルチメソッド・新数値解析手法開拓 (3)

[A-04-01] (キーノート講演)板金製造制約下におけるインストルメントパネルビームの高解像度トポロジー最適化

*和田 有司¹、樫山 武士²、長坂 圭²、西口 浩司³、岡澤 重信⁴、坪倉 誠^5,6 (1. 東京工業大学、2. スズキ株式会社、3. 名古屋大学、4. 山梨大学、5. 神戸大学、6. 理化学研究所)