Schedule 1 [J221p-04] Deposition and layer number control of molybdenum disulfide (MoS2) thin films by mist CVD 〇Masahiko Komatsu1, Tatsuya Yasuoka1, Li Liu1,2, Toshiyuki Kawaharamura1,2 (1. 高知工大シス工、2. 高知工大総研) Keywords:MoS2、層状物質、二次元材料、ミストCVD、潤滑剤、SA-CVD、薄膜