造影剤・ファントム

[O2-80] RES回避型PEG化高分子基礎基剤の材料設計と創製

^○八木 一夫^1,2, Tadashi Shinoda², Seiichi Sugimoto^3,2, Masataka Kubo², Tadashi Inaba² (1.首都大東京　大学院人間健康科学研究科, 2.Graduate School of Engineering, Mie University, 3.Tokyo Metropolitan College of Industrial Technology)