遷移金属(希土類)材料における新規電子物性

[3-26A] マルチフェロイックBiFe0.9Co0.1O3薄膜のデバイス化に向けたフォトリソグラフィによるナノドット作製

*岡島 慈英¹、重松 圭^1,2、東 正樹^1,2、吉川 浩太^1,2、伊藤 拓真¹ (1. 東京工業大学、2. 神奈川産技総研)

※この発表者は優秀講演発表賞の対象者です。

キーワード：マルチフェロイック、ペロブスカイト、遷移金属酸化物、フォトリソグラフィ