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講演特集：遷移金属化合物：新物質・新材料の合成と物性

2024年5月22日(水) 09:00 〜 10:50 第Ⅲ会場 (２F、集会室２)

座長:加藤将樹(同志社大学)

09:00 〜 09:15

[3-19A] 電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製

*中山創¹、吉川浩太¹、Lee Koomok¹、安井学²、金子智²、黒内正仁²、重松圭^1,2,3、東正樹^1,2,3 (1. 東京工業大学フロンティア材料研究所、2. 神奈川県立産業技術総合研究所、3. 東工大住友化学次世代環境デバイス協働研究拠点）（※この発表者は優秀講演発表賞の対象者です。)

09:15 〜 09:30

*藤颯太¹、菅大介¹、磯田洋介¹、間嶋拓也²、島川祐一¹ (1. 京都大学化学研究所、2. 京都大学）（※この発表者は優秀講演発表賞の対象者です。)

09:30 〜 09:45

*高橋一樹¹、酒井雄樹²、西久保匠²、東正樹^1,2 (1. 東京工業大学物質理工学院、2. 神奈川県立産業技術総合研究所）（※この発表者は優秀講演発表賞の対象者です。)

09:45 〜 10:00

*西久保匠^1,2、廣岡孝聡²、酒井雄樹^1,2、東正樹^2,1 (1. 神奈川県立産業技術総合研究所、2. 東京工業大学フロンティア材料研究所)

10:00 〜 10:40

*島川祐一¹ (1. 京都大学化学研究所)

10分休憩 (10:40 〜 10:50)