磁場配向したYSO焼結体の創製とその光学特性

講演情報

講演特集 » 外場効果を利用した新たな創製技術と機能発現

講演特集：外場効果を利用した新たな創製技術と機能発現

2024年5月21日(火) 13:00 〜 14:25 第Ⅱ会場 (２F、集会室１)

座長:吉田英弘(東京大学)

14:00 〜 14:15

*竹田透生¹、清野肇¹、小林清²、鈴木達² (1. 芝浦工業大学大学院、2. 物質・材料研究機構）（※この発表者は優秀講演発表賞の対象者です。)

キーワード：Y2SiO5、磁場中スリップキャスト、放電プラズマ焼結(SPS)

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。