講演特集：遷移金属化合物：新物質・新材料の合成と物性

[3-19A] 電子線描画HSQをマスクに用いたBiFe_0.9Co_0.1O₃ナノドットの作製

*中山 創¹、吉川 浩太¹、Lee Koomok¹、安井 学²、金子 智²、黒内 正仁²、重松 圭^1,2,3、東 正樹^1,2,3 (1. 東京工業大学フロンティア材料研究所、2. 神奈川県立産業技術総合研究所、3. 東工大住友化学次世代環境デバイス協働研究拠点）（※この発表者は優秀講演発表賞の対象者です。)

キーワード：マルチフェロイクス、微細加工