PDF Download Schedule 3 [502] サブナノ秒マイクロチップレーザーを用いたレーザーピーンフォーミング(第六報 走査条件の影響) ○鷺坂 芳弘1, 川崎 泰介2, Vincent Yahia3, 平等 拓範4, 佐野 雄二5 (1,静岡県工技研 2,東芝ESS 3,分子研 4,理研・分子研 5,分子研・阪大) マイクロチップレーザーを用いたレーザーピーンフォーミングにて,照射パルス数一定の条件下でレーザーの走査速度と走査間隔を変えて板曲げを行った.高速で走査した方が変形効率は向上することが判明した.