出展者情報
[C2] 株式会社荏原製作所 精密・電子事業カンパニー
荏原製作所 精密・電子事業カンパニーは、半導体産業で世界第2位のシェアを誇るCMP装置とドライ真空ポンプを中心に、今日の最先端プロセスを支える製品群とサービス体制を備えています。
近年、半導体産業以外の一般産業でもオイルフリードライ真空ポンプの需要が高まっており、当社のメンテナンスフリーで、コンパクトな製品が様々な用途で採用されています。今後ますます広がるドライ真空ポンプの需要に向けて、半導体産業で培った優れた省エネルギー性能、高い信頼性、秀でたコンパクトさで積極的に新しい市場を開拓します。
<精密・電子事業カンパニー製品群>
CMP装置:半導体製造前工程で半導体ウェーハの表面を砥液で研磨し、ナノメートルレベルの平坦化を可能にします。微細化の進む半導体製造プロセスに無くてはならない技術です。
ドライ真空ポンプ:均一な成膜などの微細加工で必要とされる真空系半導体製造プロセスで利用されます。低消費電力による優れたランニングコスト性能と過酷なプロセス環境での耐久性を備えています。
排ガス処理装置:半導体製造プロセスで発生する有害なガスを無害化し、お客様の工場における環境負荷を最小限に留めます。
ポンプ・排ガス処理装置一体型システム:小フットプリントでメンテナンス性が良いサブファブ環境の構築に寄与します。
オゾン水供給装置:内部パーティクルの発生しにくい構造で薬液を使用しないクリーン半導体ウェーハ洗浄プロセスに寄与しています。
近年、半導体産業以外の一般産業でもオイルフリードライ真空ポンプの需要が高まっており、当社のメンテナンスフリーで、コンパクトな製品が様々な用途で採用されています。今後ますます広がるドライ真空ポンプの需要に向けて、半導体産業で培った優れた省エネルギー性能、高い信頼性、秀でたコンパクトさで積極的に新しい市場を開拓します。
<精密・電子事業カンパニー製品群>
CMP装置:半導体製造前工程で半導体ウェーハの表面を砥液で研磨し、ナノメートルレベルの平坦化を可能にします。微細化の進む半導体製造プロセスに無くてはならない技術です。
ドライ真空ポンプ:均一な成膜などの微細加工で必要とされる真空系半導体製造プロセスで利用されます。低消費電力による優れたランニングコスト性能と過酷なプロセス環境での耐久性を備えています。
排ガス処理装置:半導体製造プロセスで発生する有害なガスを無害化し、お客様の工場における環境負荷を最小限に留めます。
ポンプ・排ガス処理装置一体型システム:小フットプリントでメンテナンス性が良いサブファブ環境の構築に寄与します。
オゾン水供給装置:内部パーティクルの発生しにくい構造で薬液を使用しないクリーン半導体ウェーハ洗浄プロセスに寄与しています。
-
担当部署
藤沢事業所内 荏原フィールドテック本社
-
住所
251-8502
神奈川県藤沢市本藤沢4-2-1 -
Tel
0466-83-9171
-
Webサイト・SNS