13:00 〜 13:15
大坂藍1),○服部梓1),田中秀和1),藤大雪2),山内和人2),佐野泰久2) (1)阪大産研,2)阪大院工)
半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス(EMP・MI・MS)
2020年11月21日(土) 13:00 〜 15:00 C会場
座長:服部 梓
13:00 〜 13:15
大坂藍1),○服部梓1),田中秀和1),藤大雪2),山内和人2),佐野泰久2) (1)阪大産研,2)阪大院工)
13:15 〜 13:30
○ハンデガードオルヤン1,2),Anh Doan1,2),NgoHai Dang1,2),Sugavaneshwar Ramu2),Ngo Thien2,1),Dao Thang2),Ishii Satoshi2),Otani Shigeki2),Nagao Tadaaki1,2) (1)Graduate School of Science, Hokkaido University,2)National Institute for Materials Science)
13:30 〜 13:45
○大森慎也1),石川豊1) (1)日本工業大)
13:45 〜 14:00
○坂本拓也1),石川豊1) (1)日本工業大)
14:00 〜 14:15
○三栗野諒1),小笠原歩見1),平野智暉1),川合健太郎1),山村和也1),有馬健太1) (1)阪大院工)
14:15 〜 14:30
○森田行則1),太田裕之1),右田真司1) (1)産総研)
14:30 〜 15:00
○小関 修一1) (1)大陽日酸(株)イノベーション事業本部)
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