PDF ダウンロード スケジュール 10 コメント (0) [1P08] シリコン表面近傍における光注入価電子正孔系の超高速緩和過程 ○佐藤悠介1)，金崎順一1)，谷村克己2)，山本勇3)，東純平3) (1)大市大院工，2)阪大産研，3)佐賀大シンクトロン光応用研究センター)
