[1Dp01-13] 薄膜・表面工学・半導体・磁気・電子・光デバイス材料・電子材料プロセス

[1Dp03] 新奇デバイス機能の実現に向けた金属酸化物の薄膜化研究

*藤原 宏平¹ (1. 東北大学金属材料研究所)

次世代エレクトロニクスの担い手として、多彩な電子機能（半導体特性、磁性、誘電性、超伝導など）を示す金属酸化物が嘱望されている。本講演では、各種真空成膜プロセス（パルスレーザー堆積法、スパッタリング法、分子線エピタキシー法）を用いた酸化物薄膜の合成例に加え、新奇デバイス機能現象を評価・検証した結果を紹介する。