[2P01-37] ポスター・企業展示

[2P18] COガスを用いた反応性スパッタリングによるTiO₂薄膜の形成と評価

*小林 真美子¹、池田 雄皇¹、宇都木 瑛人¹、野間 恭太¹、一戸 隆久¹、大野 秀樹¹ (1. 国立東京工業高等専門学校)

本研究では、透明導電膜として注目される二酸化チタン(TiO2)薄膜について、アルゴン希釈一酸化炭素(CO)ガスを用いた反応性スパッタリングによる薄膜形成およびその諸特性評価を行った。CO濃度が6％では透過率は低いが、0.1 Ωcm台の抵抗率を示し、400℃までの熱処理ではほぼ一定の抵抗率を保った。一方、600℃の熱処理では透過率80％で絶縁性を示した。このときルチル型結晶であることが見出された。