一般社団法人レーザー学会学術講演会第40回年次大会

講演情報

口頭講演

D: レーザープロセシング

[D06-21p-V] 微細加工

2020年1月21日(火) 15:00 〜 17:30 第V会場 (展示棟)

座長:寺川 光洋(慶應義塾大学理工学部電子工学科)、宇野 和行(山梨大学)

17:00 〜 17:15

[D06-21p-V-07] 【論文発表賞応募演題】
中赤外自由電子レーザーを用いた各種半導体材料における超微細LIPSS形成閾値の比較

○田中 陽平1,2、細川 誓1,2、橋田 昌樹1,2、全 炳俊3、長島 健4、尾崎 典雅5、井上 峻介1,2、阪部 周二1,2 (1. 京都大学化学研究所、2. 京都大学大学院理学研究科、3. 京都大学エネルギー理工学研究所、4. 摂南大学理工学部基礎理工学機構、5. 大阪大学大学院工学研究科)

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。参加章に記載のパスワードをご入力ください。

パスワード