単一ナノ秒レーザーパルス照射による高品質極浅穴の作製

講演情報

口頭講演

D: レーザープロセシング

2023年1月20日(金) 10:45 〜 12:30 第VII会場 (12階 1202)

座長：屋代英彦（国立研究開発法人産業技術総合研究所電子光基礎技術研究部門　先進レーザープロセスグループ）

12:00 〜 12:15

*曽田圭亮¹、安東航太¹、中嶋隆¹ (1. 京都大学)

予稿パスワード認証
予稿の閲覧には専用のアカウントが必要です。

閲覧用のパスワードは受付の際にお渡しする参加票に記載してあります。