MMIJ Annual Meeting 2015

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一般講演

高温素材プロセッシング

Fri. Mar 27, 2015 10:00 AM - 11:45 AM 第1会場 (千葉工業大学)

司会: 月橋文孝 (東京大学), 佐々木秀顕 (東京大学)

11:30 AM - 11:45 AM

[1106] Formation of molybdenum disilicide film on refractory alloys by molten salt electrolysis

竹田修1, 山中茂樹1, 星政義1, 佐藤讓1, 朱鴻民1 (1.東北大学)

司会: 佐々木 秀顕 (東京大学)

Keywords:表面改質, 溶融塩電解, 二珪化モリブデン

ニッケル基超合金上に耐酸化性被膜を付与することを目標として、溶融塩電解を用いた二珪化モリブデン被膜の形成を検討した。ニッケル電極上へのモリブデン電析は、1023~1223 Kに保持した溶融LiF-KF共晶塩にK2MoO4とK2B4O7を添加して行った。また、モリブデン電極上へのシリコン電析は973~1223 Kに保持した溶融LiF-KF共晶塩にK2SiF6を添加して行った。サイクリックボルタンメトリで電極反応を検討した後、定電流電解を行った。その結果、Mo(VI)イオンおよびSi(IV)イオンは一段で金属まで還元されることがわかった。モリブデン電析においては、Mo(VI)イオンがカソード近傍で欠乏しやすかった。また、電解時間を長くすることで、モリブデン被膜の厚みは線形に増大した。シリコン電析においては、電流密度を高くした場合、カソード表面にMoSi2の被膜が形成されると共に、大量のシリコン粉末が析出した。さらに、モリブデン電析の後、引き続きシリコン電析を行うことによって、超合金(CMSX-4)/Mo/MoSi2より成る被覆系を形成することができた。

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