環境

[PY-52] Sorption of fluoride using hydroxyapatite substituted with Al³⁺

^○長門周吾¹, 平島剛¹, 笹木圭子¹ (1.九州大学 大学院 工学研究院)

Keywords:HAp

フッ化物は半導体や電気製品の酸洗浄に用いられる不可欠な化学物質の一つである。一方で、過剰に摂取すると人体に有害な物質としても知られている。そのため日本では排水基準が8.0 ppm以下と定められている。F^-イオンは、ハイドロキシアパタイト(HAp, Ca₁₀(PO₄)₆(OH)₂)表面でイオン交換により吸着し、その反応は、ハイドロキシアパタイトにAl³⁺イオンを付加することによって、さらに促進されることが報告されている。しかしそのメカニズムに関しては明らかにされていない。本研究ではAl³⁺を付加したハイドロキシアパタイトを合成し、そのキャラクタリゼーションをXRD,²⁷Al-NMRにより行うとともに、それらのフッ化物イオンの収着後の変化を調べ、Al³⁺イオンが付加されたハイドロキシアパタイトによるF^-イオンの収着が促進されるメカニズムについて考察した。