MMIJ 2016,Morioka

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一般講演

湿式素材プロセッシング

Thu. Sep 15, 2016 9:30 AM - 2:00 PM 第2会場 (17番講義室)

司会: 佐々木秀顕(愛媛大学), 安田幸司(京都大学), 白山栄(東京大学)

11:00 AM - 11:15 AM

[3206] Analysis of Distribution and Structure of Cupric Chloro-Complexes in Hydrochloric Acid Solutions

打越雅仁, 篠田弘造 (東北大学)

司会: 安田幸司(京都大学)

Keywords:塩化銅(II)錯イオン、塩酸、X線吸収分光、成分分析

高純度金属は金属の性質を知る上で欠くことのできない重要な材料である。最も高純度化が成功した方法の一つに塩酸浴における陰イオン交換精製がある。しかし、シリサイド系半導体のように精密な添加元素制御が必要な素材の原料としては、純度が未だ不足している。この現状の打破を目的としてより高度な精製法を確立するために陰イオン交換反応の素過程を明らかにする。解析には、溶液中の陰イオン交換可能イオン種の分布を知る必要がある。そこで、吸収スペクトルとX線吸収分光の成分分析を通じて、塩酸溶媒における塩化金属錯体の分布を求める。この情報は、目的とする陰イオン交換反応の解析のみならず、例えば電極反応や、海底鉱床から浸出する金属の海洋中における分布の解析にも重要である。塩化金属錯体は塩素の配位数が異なる複数のイオン種が同時に存在するのが常であり、その構造を実験的に決定することは困難であった。そこで、FEFFを用いて成分分解後の各成分固有のEXAFSスペクトルに対するフィッティングを行い、中心金属原子に対する酸素及び塩素の配位数と最近接相関距離を決定した。ここではベースメタルとして重要な銅をモデルとして研究を行った。

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