Oral Session
D. Frontiers of Advanced Electronic Materials » [D-2] Frontier in Functional Oxides and Related Materials: from Materials Design to Device Applications
2021年12月13日(月) 09:00 〜 11:00 Room A (G401)
Chair: Yuzo Shigesato (Aoyama Gakuin University, JAPAN), Nobuto Oka (Kindai University, JAPAN)
09:00 〜 09:40
*Taro Hitosugi1 (1. Tokyo Institute of Technology (Japan))
スケジュール
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09:40 〜 10:05
*Akira Chikamatsu1, Tetsuya Hasegawa1 (1. Univ. of Tokyo (Japan))
スケジュール
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10:05 〜 10:20
*Kota Matsumoto1, Hideyuki Kawasoko1, Tomoteru Fukumura1,2 (1. Tohoku Univ. (Japan), 2. WPI-AIMR and Core Res. Cluster (Japan))
スケジュール
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10:20 〜 10:45
*YI YIN1 (1. University of Electronic Science and Technology of China (China))
スケジュール
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10:45 〜 11:00
*Umar Sidik1, Azusa N. Hattori1, Ken Hattori2, Hidekazu Tanaka1 (1. Inst. of Sci. and Indus. Res., Osaka University (Japan), 2. Grad. Sch. of Sci. and Tech., Nara Inst. of Sci. and Tech. (Japan))
スケジュール
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