<em>Ab initio</em> insights into polaron formation barriers

講演情報

Oral Session

D. Frontiers of Advanced Electronic Materials » [D-3] Defect Functionalized Energy and Electronic Materials

2021年12月14日(火) 09:00 〜 11:00 Room O (G316)

Chair: Alexander Shluger (UCL), Fumiyasu Oba (Tokyo Tech)

10:15 〜 10:30

*Shuaishuai Yuan¹, Zi Wang¹, Maximilian L. F. Baron¹, Kirk H. Bevan¹ (1. McGill Univ. (Canada))

キーワード：Polaron, Formation barrier, Ab initio

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