Fabrication and characterization of resistive random-access memory device using amorphous 12CaO• 7Al2O3

講演情報

Poster Session

D. Frontiers of Advanced Electronic Materials » [D-3] Defect Functionalized Energy and Electronic Materials

[D3-PV21] Slot 21

2021年12月13日(月) 18:30 〜 20:00 D3-PV21 (online)

18:30 〜 20:00

*Tasuke Kadono¹, Keisuke Ide¹, Takayoshi Katase¹, Hidenori Hiramatsu¹, Hideo Hosono¹, Toshio Kamiya¹ (1. Tokyo Institute of Technology (Japan))

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