16:30 〜 17:00
*Shinjae You1, Sijun Kim1, Chulhee Cho1, Daewoong Kim2 (1. Chungnam National Univ. (Korea), 2. Korea Inst. of Machinery and Materials (Korea))
Oral Session
G. Process » [G-1] Advanced Plasma Processing in the New Era
2023年12月14日(木) 16:30 〜 18:30 Session 13 (Room I)
Chair: R. Mohan Sankaran (University of Illinois Urbana-Champaign)
16:30 〜 17:00
*Shinjae You1, Sijun Kim1, Chulhee Cho1, Daewoong Kim2 (1. Chungnam National Univ. (Korea), 2. Korea Inst. of Machinery and Materials (Korea))
17:00 〜 17:30
Jeong-Hwan Oh1, Minseok Kim2, Yong Hee Lee1, Tae-Hee Kim3, *Sooseok Choi1 (1. Jeju National Univ. (Korea), 2. UC Riverside (United States of America), 3. Wonkwang Univ. (Korea))
17:30 〜 17:45
*Neelakandan Marath Santhosh1,2, Janez Zavašnik1,2, Uroš Cvelbar1,2 (1. Jožef Stefan Institute (Slovenia), 2. Jožef Stefan International postgraduate School (Slovenia))
17:45 〜 18:00
Yiran Wang1, *Manabu Tanaka1, Takayuki Watanabe1 (1. Kyushu Univ. (Japan))
18:00 〜 18:15
*Chayanaphat Chokradjaroen1, Jiangqi Niu1, Nagahiro Saito1 (1. Nagoya University (Japan))
18:15 〜 18:30
*Giichiro Uchida1, Kodai Masumoto1 (1. Meijo Univ. (Japan))
要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン