Fabrication of Zirconium Nitride Hydride Epitaxial Films by Alternating-Target Pulsed-Laser Deposition

11:10 〜 11:30

[B3-O201-04] Fabrication of Zirconium Nitride Hydride Epitaxial Films by Alternating-Target Pulsed-Laser Deposition

*Daichi Miyazaki¹, Ziyang Cao¹, Takuto Soma¹, Akira Ohtomo¹ (1. Tokyo Tech. (Japan))

キーワード：Mixed-anion compounds, Metal hydrides, Nitride hydrides, Pulsed-laser deposition, Epitaxy

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