MRM2023/IUMRS-ICA2023

講演情報

Oral Session

C. Environment » [C-4] Advanced Water Treatment and Materials for SDGs

[C4-O203] Oral 203

2023年12月12日(火) 16:30 〜 18:30 Session 3 (Room157)

Chair: Isao Shitanda (Tokyo University of Science), Shu-hei Urashima (Tokyo University of Science), Masahiro Kunimoto (Univ. of Yamanashi)

17:30 〜 17:45

[C4-O203-05] Sterilization Effect of Ozone on Rinsing Water for Plating Process

*Akihiro Shimizu1, Makoto Jinsenji1, Chisa Fukuda1, Yoshiyuki Nishimura1, Hibiki Nawai2, Natsuki Uchida2, Shiro Yamauchi1,3, Osamu Takai3 (1. OM Sangyo Co. , Ltd. (Japan), 2. OM Kiki Co. , Ltd. (Japan), 3. Materials & Surface Engineering Research Institute, Kanto Gakuin University (Japan))

キーワード:Plating, Rinsing water, Ozone, Sterilizing

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