MRM2023/IUMRS-ICA2023

講演情報

Oral Session

G. Process » [G-1] Advanced Plasma Processing in the New Era

[G1-O502] Oral 502

2023年12月15日(金) 14:00 〜 16:30 Session 13 (Room I)

Chair: Osamu Sakai (Univ. Shiga Pref.)

14:30 〜 14:45

[G1-O502-02] Fabrication of ZnO Based Transparent Conducting Oxide as an Alternative to In2O3:Sn by Sputtering Combined with Solid Phase Crystallization

*Naho Itagaki1, Zhiyuan Shen1, Yoshiharu Wada1, Hisato Yabuta1, Naoto Yamashita1, Takamasa Okumura1, Kunihiro Kamataki1, Kazunori Koga1, Masaharu Shiratani1 (1. Kyushu Univ. (Japan))

キーワード:ZnO, transparent conducting oxide, sputtering, solid phase crystallization, nucleation

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