Hydrothermal Electrochemical Flow Reactor to Independently Control Temperature, and Pressure for Manganese Oxides Electrodeposition

講演情報

Oral Session

G. Process » [G-4] Advanced smart processing

[G4-O401] Oral 401

2023年12月14日(木) 09:00 〜 12:00 Session 3 (Room157)

Chair: Nobuhiro Matsushita (Tokyo Institute of Technology), Michael Huang (National Tsing Hua University)

10:18 〜 10:31

*Akira Yamaguchi¹ (1. Tokyo Tech. (Japan))

キーワード：Hydrothermal ELectrodeposition, Manganese Oxides, Water Oxidation

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