Solution Plasma-Enhanced Heteroatom Doping in TiO<sub>2</sub> Nanoparticles

講演情報

Oral Session

G. Process » [G-1] Advanced Plasma Processing in the New Era

[G1-O403] Oral 403

2023年12月14日(木) 16:30 〜 18:30 Session 13 (Room I)

Chair: R. Mohan Sankaran (University of Illinois Urbana-Champaign)

18:00 〜 18:15

*Chayanaphat Chokradjaroen¹, Jiangqi Niu¹, Nagahiro Saito¹ (1. Nagoya University (Japan))

キーワード：solution plasma, TiO2, nanoparticles, heteroatom, doping, oxygen vacancy

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