MRM2023/IUMRS-ICA2023 [DEMO]

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Poster Session

G. Process » [G-4] Advanced smart processing

[G4-P401] Poster 401

2023年12月14日(木) 09:00 〜 12:00 Poster (Annex)

[G4-P401-17] Vapor-phase chemical etching of silicon assisted by thin MoS2 crystals

*Kaichi Yamamoto1, Toru Utsunomiya1, Takashi Ichii1, Hiroyuki Sugimura1 (1. Kyoto Univ. (Japan))

キーワード：silicon, MoS2, etching

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