スケジュール 2 [2P90] ピレン光触媒/可視光照射下で進行するジエテニルスルホンの還元的脱スルホニル化反応 *渡部 光1、佐藤 拓磨1、菅原 大地1、奥田 靖浩1、折田 明浩1 (1. 岡山理科大学) キーワード：還元的脱スルホニル化、オレフィン、フォトレドックス触媒 予稿パスワード認証予稿の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。予稿は2022年9月11日（日）に公開されます。 パスワード 認証
