SISPAD2023

講演情報

Oral

[Session 4] Process Simulation

2023年9月27日(水) 15:20 〜 17:00 Hall B

Chair: Nobuhiko Nakano (Keio Univ.), Junichi Hattori (AIST)

16:00 〜 16:20

[Session_4-03] Influence of Surface Halogenation on Silane Adsorption onto Silicon Surfaces for Poly-Si Epitaxy: A Density Functional Theory Study with Neural Network Potential

*Hyunhak Jeong1, Byungjo Kim1, Youjung Kim2, Hanmei Choi2, Suyoung Yoo1, Sang Ki Nam1 (1. Mechatronics Res., Samsung Electronics, 2. Semiconductor R&D Center, Samsung Electronics)

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