2023年電子情報通信学会ソサイエティ大会

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[CI-2] 我が国の最先端半導体製造技術の夜明けと未来

2023年9月13日(水) 13:00 〜 16:45 IB電子情報館中棟 1階IB014講義室

座長:大見俊一郎(東工大),葛西誠也(北大)

<1〜5>
電子デバイス研専、シリコン材料デバイス 共催

[CI-2-1] プラズマ科学による最先端半導体製造技術の変革

堀勝 (名大)

キーワード:プラズマ

現在、最先端大規模集積回路製造の80%でプラズマが使われ、微細加工技術のドライビングフォースとしてプロセス技術を牽引し続け、1nm寸法の超微細加工に向けてさらなる開発が進められている。一方で、製造における膨大な電力使用が大きな課題となってクローズアップされてきた。プラズマによる超高アスペクト比エッチングなどでは、依然として試行錯誤的な開発が行われており、このままではプロセス破綻を迎えるのは明らかである。将来の大規模集積回路製造プロセスには、グリーン化を実現するための変革が必要になっている。本講演では、プラズマ科学による最先端半導体プラズマ製造のための新たな技術革新について述べる。

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