日本分子生物学会/日本生化学会

10:17 〜 10:35

[2W20-5] 複製ポリメラーゼデルタによる損傷乗り越えの可能性

〇廣田 耕志1,2、津田 雅貴1、Mohiudin Mohiudin1、釣本 敏樹3、山元 淳平4、岩井 成憲4、Zvi Livneh5、Julian Sale6、武田 俊一1 (1.京大・医、2.首都大・理工・化学、3.九大・理、4.阪大・理工、5.ワイズマン研究所、6.ケンブリッジ大)

複製ポリメラーゼデルタ, 損傷乗り越え, 紫外線, 脱塩基

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