Oxidation Kinetics of Ge by Oxygen Radicals at Low Temperatures and Electrical Properties of GeO2/Ge Gate Stacks

2012 International Conference on Solid State Devices and Materials

2012年9月25日〜 2012年9月27日
Kyoto International Conference Center, Kyoto, Japan

W. Song^1,2、C. H. Lee^1,2、T. Nishimura^1,2、K. Nagashio^1,2、A. Toriumi^1,2 (1.Univ. Tokyo、2.JST-CREST , Japan)