Elliptical Pillar Duplication by Self-Aligned Double Patterning Technology

A. J. Hong

doi:https://doi.org/10.7567/SSDM.2016.PS-4-04

2016 International Conference on Solid State Devices and Materials

2016年9月26日〜 2016年9月29日
Tsukuba International Congress Center, Tsukuba, Japan

15:00 〜 17:00

[PS-4-04] Elliptical Pillar Duplication by Self-Aligned Double Patterning Technology

^○A. J. Hong¹, J. Shim¹, M. Lee¹, K. Lee¹, K. Jung¹, J. Hong¹, H. Seong¹, K. Kim¹, S. Jeon¹, Y. Kim¹, J. Park¹, H. Hong¹, K. Lee¹, E. Jung¹ (1.Samsung Electronics Co. Ltd(Korea))

https://doi.org/10.7567/SSDM.2016.PS-4-04

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