函館大会(第51回石油・石油化学討論会)

セッション情報

連続プロセスオートメーション

[2F16-17] 連続プロセスオートメーション(3)

2021年11月12日(金) 16:15 〜 17:15 F会場 (函館アリーナ スタジオB)

座長:森田 真澄(富士通エンジニアリングテクノロジーズ(株))

16:15 〜 16:45

○小渕 恵一郎1 (1. 横河電機株式会社 横河プロダクト本部 コントロールセンター)

近年AI技術は大きく進歩し、あらゆる分野に適用され、その有効性が確認さている。しかし、プラント分野ではいくつかの理由からAI技術の適用が比較的遅れている。これに対し、我々はプラントへの適用を前提にAIアルゴリズムを修正し、いくつもの課題を解いてきた。ここでは、AI技術を使った課題解決アプローチを紹介した上で、いくつかの事例について説明する。更に、強化学習型AIを使った自動制御に関する取り組みを紹介する。

16:45 〜 17:15

○入倉 基樹1 (1. 千代田化工建設株式会社)

FCC 最適運転AIシステムは、FCC(流動接触分解)装置の運転最適化支援を目的として、機械学習により過去の運転データとエンジニアリングノウハウを反映したデータを学習したAIにより、(1)FCC装置の反応状態の見える化、(2)触媒再生塔におけるアフターバーニング現象の予測、を実現するものである。本発表では、その技術内容と期待される効果、ならびにFCC装置の運転最適化/自律運転に向けた将来展望について述べる。
×

認証

抄録パスワード認証
抄録の閲覧にはパスワードが必要です。パスワードを入力して認証してください。

×

要旨・抄録、PDFの閲覧には参加者用アカウントでのログインが必要です。参加者ログイン後に閲覧・ダウンロードできます。
» 参加者用ログイン