Jixuan Wu

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発表者・著者、共著者

2021年3月16日(火) 13:30 〜 17:30 Z26 (Z26)

一般セッション(口頭講演)
| CS コードシェアセッション
| 【CS.5】 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

[16p-Z26-1~15] CS.5 6.1 強誘電体薄膜、13.3 絶縁膜技術、13.5 デバイス／配線／集積化技術のコードシェアセッション

14:45 〜 15:00

▼ [16p-Z26-6] A First-Principles Study on Ferroelectric Phase Formation of Si-Doped HfO₂

〇(P)Jixuan Wu¹、Fei Mo¹、Takuya Saraya¹、Toshiro Hiramoto¹、Masaharu Kobayashi¹ (1.IIS, Univ. of Tokyo)