[16a-Z10-1~10] 3.15 シリコンフォトニクス・集積フォトニクス

[16a-Z10-7] スロット導波路のダメージフリー作製プロセス

〇阿部 峻佑^1,2、松山 薫²、原 英生²、増田 伸²、山田 博仁¹ (1.東北大工、2.Advantest labs. Ltd.)

キーワード：シリコンフォトニクス、スロット導波路、スポットサイズ変換器

Siフォトニクスに電気光学ポリマを融合した光変調器は100 Gbps以上の高速変調が期待できる。この変調器の実現にはスロット導波路が必要であるが、従来の作製方法ではスポットサイズ変換器（SSC）を作製する際にスロット導波路上にも第二コア材料が成膜されるため、エッチングなどで第二コア材料を除去する必要があった。発表では感光性ポリマを用いることで、スロット導波路にダメージなくSSCを作製するプロセスについて報告する。