2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[16a-Z23-1~11] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2021年3月16日(火) 09:00 〜 12:00 Z23 (Z23)

鵜殿 治彦(茨城大)、山口 憲司(量研機構)

09:00 〜 09:15

[16a-Z23-1] RFスパッタ成長時の基板温度がガラス基板上BaSi2膜の特性に与える影響

〇小板橋 嶺太1、根本 泰良1、召田 雅美2、都甲 薫1、末益 崇1 (1.筑波大学、2.東ソー株式会社)

キーワード：BaSi2、スパッタリング法、シリサイド半導体