Surface reactions of fluorinated Y2O3 by H+ and O+ ion irradiation

Hojun Kang; Tomoko Ito; Junghwan Um; Hikaru Kokura; Taekyun Kang; Sung-Il Cho; Hyunjung Park; Kazuhiro Karahashi; Satoshi Hamaguchi

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8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[17a-Z03-1~10] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2021年3月17日(水) 09:00 〜 11:45 Z03 (Z03)

林久貴(キオクシア)、伊藤智子(阪大)

10:45 〜 11:00

▼ [17a-Z03-8] Surface reactions of fluorinated Y₂O₃ by H⁺and O⁺ ion irradiation

〇(M2)Hojun Kang¹、Tomoko Ito¹、Junghwan Um²、Hikaru Kokura²、Taekyun Kang²、Sung-Il Cho²、Hyunjung Park²、Kazuhiro Karahashi¹、Satoshi Hamaguchi¹ (1.Osaka Univ.、2.Memory Etch Technology Team, Samsung Electronics)

キーワード：Yttria, Fluorine

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▼ [17a-Z03-8] Surface reactions of fluorinated Y₂O₃ by H⁺and O⁺ ion irradiation