2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

[18a-Z17-1~11] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理

2021年3月18日(木) 09:00 〜 12:00 Z17 (Z17)

竹中 弘祐(阪大)、竹田 圭吾(名城大)

10:30 〜 10:45

[18a-Z17-6] 水蒸気添加マイクロ波水素プラズマ化学輸送法によるダイヤモンドの合成特性

小松 直人1、東後 篤尚1、垣内 弘章1、安武 潔1、大参 宏昌1 (1.阪大院工)

キーワード:水素プラズマ、プラズマCVD、ダイヤモンド

ダイヤモンド膜はその優れた機械的特性から、切削工具の保護膜等の様々な分野で利用されている。本研究では、原料ガスの供給が必要な従来型のCVD法に変わり、廉価な固体炭素原料からダイヤモンドを合成する手法としてマイクロ波水素プラズマ化学輸送法を適用している。今回は、グラファイト原料から合成するダイヤモンド膜の高品質化に向け、成膜雰囲気中への水添加が膜形態・結晶性に与える影響について検討した結果を報告する。