2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[18p-Z15-1~15] 6.4 薄膜新材料

2021年3月18日(木) 13:30 〜 17:30 Z15 (Z15)

土屋 哲男(産総研)、西川 博昭(近畿大)

14:00 〜 14:15

[18p-Z15-3] 複合成膜手法により成膜された低屈折率SiO2光学薄膜の親水性評価

〇(B)伊藤 睦記1、松本 繁治2、室谷 裕志1 (1.東海大工、2.(株)シンクロン)

キーワード:光学薄膜、親水性

本研究室では,真空蒸着法とスパッタリング法を同一真空容器内に設置して稼働させる複合成膜手法を開発し,SiO2光学薄膜の低屈折率化に成功している.複合成膜手法では膜の構造が多孔質になることで低屈折率を実現しているため,水分子の吸着サイト増大につながり,高い親水性が期待できる.本研究では,通常蒸着と複合成膜手法により成膜されたSiO2光学薄膜の膜構造の違いによる親水性の評価を目的とする.