2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[18p-Z15-1~15] 6.4 薄膜新材料

2021年3月18日(木) 13:30 〜 17:30 Z15 (Z15)

土屋 哲男(産総研)、西川 博昭(近畿大)

15:00 〜 15:15

[18p-Z15-7] MBE法によるBa(Zn,Fe)2As2薄膜の作製及び物性評価

〇(M1)池上 諒1、清澤 知正1、畑野 敬史1、石田 高史2、浦田 隆広1、飯田 和昌1,3、生田 博志1 (1.名大院工、2.名大未来研、3.JST-CREST)

キーワード:磁性半導体

近年、 (Ba,K)(Zn,Mn)2As2をはじめBaZn2As2を母物質とする磁性半導体探索が盛んに行われているが、薄膜化に関しては母相が室温で準安定、ZnやAsの蒸気圧が高い等といった理由から作製が難しく、報告例は少ない。そこで本研究では、この系のMBE法による単相薄膜作製に取り組んだ。さらに磁性元素としてFeを部分置換することで電子キャリアが導入されること等を見出したので報告する。