09:45 〜 10:00 [19a-Z24-4] ミニマルファブを用いたSi酸化膜ドライエッチングプロセスの研究 〇田中 宏幸1、野沢 善幸2,3、速水 利泰2,3、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.SPPテクノロジーズ)
10:45 〜 11:00 [19a-Z24-7] 深掘りBoschエッチングプロセスにおけるマスク材料依存性 〇田中 宏幸1、野沢 善幸2,3、速水 利泰2,3、クンプアン ソマワン1,2、原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.SPPテクノロジーズ)