大堀大介

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発表者・著者、共著者

2021年3月18日(木) 13:30 〜 17:15 Z24 (Z24)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

[18p-Z24-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

16:30 〜 16:45

[18p-Z24-12] フェリチンの２次元配列におけるグリセロール含有溶媒の効果

〇大堀大介¹、竹内聡¹、佐藤旭¹、石田昌久²、曽田匡洋²、田中麻美²、遠藤和彦^1,3、寒川誠二^1,3,4 (1.東北大流体研、2.長瀬産業、3.産総研、4.東北大AIMR)

2021年3月17日(水) 13:30 〜 18:00 Z26 (Z26)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.5 デバイス／配線／集積化技術

[17p-Z26-1~15] 13.5 デバイス／配線／集積化技術

15:45 〜 16:00

△ [17p-Z26-7] 中性粒子ビーム加工による高移動度Ge FinFETの実現

〇大堀大介¹、野田周一²、藤井卓也¹、水林亘²、遠藤和彦^1,2、Li Yiming³、Lee Yao-Jen⁴、尾崎卓哉¹、寒川誠二^1,2,5 (1.東北大流体研、2.産総研、3.NCTU、4.TSRI、5.東北大AIMR)