10:45 〜 11:00 [18a-Z27-7] スパッタ・アニール法によるAlGaN薄膜の作製 〇窪谷 茂幸1、岩山 章2、上杉 謙次郎1、正直 花奈子3、則松 研二1、三宅 秀人2,3 (1.三重大地創戦略企、2.三重大院地域イノベ、3.三重大院工)