[17p-Z16-1~8] 7.2 電子ビーム応用

△ [17p-Z16-8] 電子ビームリソグラフィにおけるレジスト無帯電の露光条件探索

〇(M1)小島 健太郎¹、久保 建統¹、河野 由伸¹、小寺 正敏¹ (1.大阪工大)

キーワード：電子ビーム

電子ビーム(EB)リソグラフィにおける絶縁レジストの帯電現象は、そのパターニング精度に大 きな影響を及ぼす。本研究目的は EB リソグラフィにおける無帯電条件を体系化することである。 本研究では、我々がこれまで発表してきた結果に加え、異なる3種類の膜厚で表面がほとんど帯電しない露光量条件を2つ見つけ出した。また、帯電メカニズムを説明するモデルを考案し、発表では、このモデルに基づいて、無帯電露光条件で観察された M 字型や W 字型の表面電位分布の性質、レジスト膜厚依存性、経過時間による表面電位の変化について詳しく説明を行う予定です。