2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[19a-Z09-1~9] 3.2 材料・機器光学

2021年3月19日(金) 09:00 〜 11:45 Z09 (Z09)

片山 龍一(福岡工大)、熊本 康昭(阪大)

09:00 〜 09:15

[19a-Z09-1] 微粒子を塗布したアゾベンゼンポリマーを用いた構造性偏光グレーティングの作製

〇(M1)戈 剣飛1、茨田 大輔1 (1.Utsunomiya University)

キーワード:アゾベンゼンポリマー、偏光ホログラフィ、構造性複屈折

偏光回折光学素子は,偏光感受性記録媒体用いた偏光ホログラフィか,光の波長以下の微細構造を微細加工技術によって作製される.前者は記録媒体内部の光学異方性を変化させるので,複製が難しい.また,後者はナノインプリンティングによる複製は可能であるが,大面積なマスターを作ることが難しい.本研究では,偏光ホログラフィによって構造複屈折を発現させる方法を提案する.