日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[B講演]

08. 触媒 » 口頭B講演

[B304-1pm] 08. 触媒

2022年3月23日(水) 13:20 〜 15:40 B304 (年会オンライン)

座長:矢部 智宏、邨次 智

14:00 〜 14:20

[B304-1pm-03] ホスホン酸エステル部位を含むpseudo-grafted precursorの固定化による効率的なシリカ表面修飾

石坂 悠介1,2、松本 和弘2、佐藤 一彦2、崔 準哲1,2 (1. 筑波大学大学院、2. 産業技術総合研究所)

[言語]英語

キーワード:ホスホン酸シリル、表面修飾、シリカ、固定化、固体NMR