日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[B講演]

18. 高分子 » 口頭B講演

[C203-2am] 18. 高分子

2022年3月24日(木) 09:00 〜 11:40 C203 (年会オンライン)

座長:権 正行、小柳津 研一

09:20 〜 09:40

[C203-2am-02] ビスアリールフルオレン骨格を有するラジカル系メカノフォアの合成、反応、および DFT 計算

杉田 一1,2、Yi Lu2、巳上 幸一郎1、青木 大輔2、大塚 英幸2 (1. 相模中央化学研究所、2. 東京工業大学)

[言語]日本語

キーワード:メカノケミストリー、メカノラジカル、電子スピン共鳴、DFT計算