日本化学会 第102春季年会 (2022)

講演情報

アカデミックプログラム[B講演]

18. 高分子 » 口頭B講演

[C203-2am] 18. 高分子

2022年3月24日(木) 09:00 〜 11:40 C203 (年会オンライン)

座長:権 正行、小柳津 研一

10:40 〜 11:00

[C203-2am-06] 光安定性と光加工性を両立する光機能性材料の創製

ラッセル 豪マーティン1、金子 隆1、正井 宏1、寺尾 潤1 (1. 東大)

[言語]英語

キーワード:光安定性、光加工性、ゲル、架橋剤 、発光性